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HANNA HI84500滴定分析系統(tǒng)

更新時(shí)間:2023-11-11

簡(jiǎn)要描述:

HANNA HI84500滴定分析系統(tǒng):
HI84500采用滴定分析方法快速測(cè)量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域,二氧化硫的主要應(yīng)用是進(jìn)行防腐。以葡萄酒為例,當(dāng)有氧存在時(shí)將Z先與二氧化硫發(fā)生反映,起到抗氧化的作用,進(jìn)而保證酵母菌的正常發(fā)酵,并抑制其他雜菌。

僅供科研

HANNA HI84500滴定分析系統(tǒng)全網(wǎng)較為低價(jià)


HANNA HI84500滴定分析系統(tǒng)價(jià)

HI84500采用滴定分析方法快速測(cè)量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域,二氧化硫的主要應(yīng)用是進(jìn)行防腐。以葡萄酒為例,當(dāng)有氧存在時(shí)將較為先與二氧化硫發(fā)生反映,起到抗氧化的作用,進(jìn)而保證酵母菌的正常發(fā)酵,并抑制其他雜菌。


HANNA HI84500滴定分析系統(tǒng)價(jià)---產(chǎn)品特點(diǎn):

基于微電腦控制技術(shù),集滴定分析,磁力攪拌和電極測(cè)量于一體。

性能優(yōu)良操作簡(jiǎn)單,可直接顯示測(cè)量結(jié)果。

人性化設(shè)計(jì),具有穩(wěn)定標(biāo)識(shí)和校準(zhǔn)信息等顯示功能。

殘留二氧化硫濃度取決于三個(gè)因素:總添加量,原初始量,添加的氧化程度。

通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用。

當(dāng)殘留濃度*過2.0ppm時(shí),即被人感知到,因此以此濃度作為上限值。


HANNA HI84500滴定分析系統(tǒng)價(jià)---訂購信息:

HI84500

主機(jī),HI3148B 防堵塞CPSTM技術(shù)可填充玻璃復(fù)合氧化還原電極,HI7082S 電極填充液(30mL),HI7662-T不銹鋼溫度探頭,HI84500-70二氧化硫滴定試劑及酸度標(biāo)準(zhǔn)液套裝,相關(guān)滴定管件,HI71006 AC230V/12VDC電源適配器,中英文使用說明書


公司簡(jiǎn)介:

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